CONCURSO ID 1043911
Adquisición de un equipo de implantación de iones por inmersión en plasma (PIII) La técnica PIII consiste en la implantación precisa de iones dopantes (como boro, fósforo o arsénico) en materiales semiconductores. El NTC trabaja en concreto sobre la fabricación de dispositivos fotónicos y de momento no dispone de esta técnica ni de ninguna similar…